Научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ группы компаний «Элемент» завершили создание первых в России кластерных систем для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Об этом написали
Новое оборудование позволит производить интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм. Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат в том числе перспективную потребность отечественной микроэлектроники.
Замминистра промышленности и торговли РФ Василий Шпак отметил ключевую особенность новой разработки — модульность, что позволяет отрабатывать процессы производства микросхем на существующем оборудовании и переходить к более тонким техническим процессам. Таким образом, установки уже можно применять там, где используют технологические нормы, реализованные на пластинах 200 мм.
НИИМЭ и НИИТМ вошли в пятерку мировых лидеров, у которых есть технологии по созданию подобного оборудования. При этом основным исполнителем выступил НИИМЭ, который обеспечил строительство чистых производственных помещений, монтаж и подключение опытных образцов, разработку технологических процессов и их испытания. Саму кластерную установку создал НИИТМ.
Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов и гендиректор НИИТМ Михаил Бирюков отметили, что создание российских кластерных систем для ПХО и ПХТ станет важным этапом на пути к технологической самостоятельности отечественной микроэлектроники.
Электронная продукция перед выпуском в оборот подлежит оценке соответствия по техническим регламентам. Также она может подпадать под 126-ФЗ «О связи», разрешительный режим ввоза, требования транспортной безопасности.
Для оформления разрешительных документов на электронику позвоните нам по телефону, напишите на почту: rct@rctest.ru либо заполните форму на сайте.
